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電漿去光阻機PA01/PA03B
產品功能
快速去除晶圓上之殘留光阻，達到晶圓表面潔淨，蝕刻率同業最高
產品特色
處理均勻性佳
離子能量低、不損傷基板
沒有電極及基板的污染
專利設計之特殊電漿電極
高密度電漿源
電漿效率高、清潔效率高
可控制低的離子能量
結合化學反應性及物理撞擊性
處理速度快、清潔效率高、可靠度高
操作範圍廣
可使用多種製程氣體
設備穩定高，容易維護
可依客戶需求作更改
應用產業
殘餘光阻去除
PSS來料清潔製程
產品功能
快速去除晶圓上之殘留光阻，達到晶圓表面潔淨，蝕刻率同業最高
產品特色
處理均勻性佳
離子能量低、不損傷基板
沒有電極及基板的污染
專利設計之特殊電漿電極
高密度電漿源
電漿效率高、清潔效率高
可控制低的離子能量
結合化學反應性及物理撞擊性
處理速度快、清潔效率高、可靠度高
操作範圍廣
可使用多種製程氣體
設備穩定高，容易維護
可依客戶需求作更改
應用產業
殘餘光阻去除
PSS來料清潔製程
