CMP研磨鑽石液(Slurry)

金太客技術部門研發 鑽石研磨拋光液高精度CMP製程專用

使用正確的研磨液→減少研磨時間!!節約劑量

經濟規模給貴司帶來經濟效益
客製化符合製程需求
整合物流系統
提供粒徑分布報告 免費送樣測試

對光澤度要求極高之研磨拋光應用:水性鑽石液
加速對切磨效能的要求:油性鑽石液

其沉澱度/表面粗糙度/切削功率之要求全可客製化要求配製!

應用範圍:對表面光潔度要求高的物料及元件
包括光電産品、陶瓷、金屬物料及半導體基盤(substrates)

晶元wafer製程中 拋光 研磨 減少刮傷的優質選擇
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